[{[アンモニアとシクロヘキサノールと二水素による(シクロヘキサンアミ
ンとN−シクロヘキシルシクロヘキサンアミン)製造時の水蒸気による設備洗
浄廃液]と{フェノールとブタ−1−エンによる[2−(ブタン−2−イル)
フェノールと4−(ブタン−2−イル)フェノール]製造時の水蒸気による設
備洗浄廃液}と[メタノールと3−メチルフェノールによる(2,5−ジメチ
ルフェノールと2,3,6−トリメチルフェノール)製造時の水蒸気による設
備洗浄廃液]と(2−メチルフェノールと2−メチルプロパ−1−エンによる
2−tert−ブチル−6−メチルフェノール製造時の水蒸気による設備洗浄
廃液)}の混合廃液とその反応生成物(酸化反応生成物を含む。)の混合物]
から水層を分離した廃液